蒸发磁控溅射镀膜设备
产品描述
| 编号： | 产地： 广东省东莞市 |
| 价格：面议 | 规格： 订做 |
| 详细介绍：设备集中了等离子体处理，高端阴极磁控溅射，、电阻蒸发镀膜装置，大装载量转架和自动化控制技术，工作可靠、重复性一致性良好、沉积速率高快，附着力好，膜层品质细腻等，镀制的薄膜致密硬度高，磨擦系数低，可保持原有工件表面光洁，具有韧性好，不易破裂脱落。设备实现镀膜工艺全自动化控制。在基材表面利用真空镀膜方法进行涂层，具有生产成本低、产品合格率高、绿色环保等特点，主要适用于电脑、手机、高端工业（家用）电子电器、航空等领域，，可镀制复合金属膜、合金膜、透明（半透明）膜、不导电膜、电磁屏蔽膜及特殊膜层等。 型号 JLZ-1000 JTZ-1200 JTZ-1300 JTZ1400 真空室尺寸 ￠1400×1400MM ￠1200×1500MM ￠1300×1800MM ￠1400×1800MM 制膜种类 金属膜、半透明膜、不导电膜、电磁屏蔽膜、介质膜等 电源类型 电阻蒸发电源、直流磁控电源、射频电源 溅射及电极结构 圆柱磁控靶、平面矩形靶、孪生靶、蒸发电极 真空室结构 立式双开门、立式单开门、后置抽气系统/卧式单开门、侧置抽气系统 极限真空 4.0×10-4PA 真空系统组成 扩散泵+罗茨泵+机械泵+维持泵 抽气时间 从大气抽至8.5×10-3PA，小于或等于15分钟 工件运动方式 公自转/变频调速 控制方式 手动/自动一体化式，触摸屏+PLC 备注 以上设备可按客户实际及特殊工艺要求设计订做 | |
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