多功能离子镀膜设备
产品描述
| 编号： | 产地： 东莞市 |
| 价格：面议 | 规格： |
| 详细介绍：1. 磁控溅射的原理是基于阴极辉光放电理论，把阴极表面磁场扩展到接近工件表面，提高了溅射原子离化率。既保留磁控溅射的细腻又增强了表面光泽度。 2. 电弧等离子体蒸发源性能可靠，在优化阴极及磁场结构镀膜时可在 30A 电流下工作，镀膜膜层和基底界面产生原子扩散，又具有离子束辅助沉积的特点。 参数说明： 型号 JTL-800 JTL-1000 JTL-1250 真空室尺寸 Φ800Χ1000mm Φ1000Χ1000mm Φ1250Χ1100mm 镀膜方式及主要配置 六个多弧靶 +一套圆柱靶+一套平面矩形磁控溅射靶 八个多弧靶 +一对孪生（中频）磁控溅射靶+一套平面矩形磁控溅射靶 十二个多弧靶 +二套平面矩形磁控溅射靶+一对孪生（中频）磁控溅射靶 电源 电弧电源、直流磁控电源、中频磁控电源、灯丝电源、脉冲电源、线性离化源 工艺气体控制 质量流量计 +电磁陶瓷阀 真空室结构 立式侧（单）开门结构，后置抽气系统，双层水冷 真空系统组成 分子泵 +罗茨泵+机械泵（5.0Χ10-5 pa），扩散泵+罗茨泵+机械泵（ 5.0Χ10-4pa） 工件烘烤温度 常温到 500度可调可控(PID控温)，辐射加热 工件运动方式 公自转变频调速， 0-20转/分 测量方式 数显复合真空计：测量范围从大气至 1.0Χ10-5pa） 控制方式 手动 /自动/PC/PLC+HMI/PC四种控制方式可选 备注 以上设备可按客户实际产品及特殊工艺要求设计订做 | |
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